與不同的氣體發(fā)應形成一種薄膜涂層。今天所使用的大多數PVD方法是電弧和濺射沉積涂層。這兩種過(guò)程需要在高度真空條件下進(jìn)行。Ionbond 陰極電弧PVD涂層技術(shù)在20世紀70年代后期由前蘇聯(lián)發(fā)明，如今，專(zhuān)業(yè)鍍鈦加工公司，絕大多數的刀模具涂層使用電弧沉積技術(shù)。

　　工藝溫度：典型的PVD涂層加工溫度在250℃— 450℃之間，但在有些情況下依據應用領(lǐng)域和涂層的質(zhì)量，PVD涂層溫度可低于70℃或高于600℃進(jìn)行涂層。

PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜 ，指的就是真空離子鍍膜；通常說(shuō)的NCVM鍍膜，表面鍍鈦加工公司，就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，蕭縣鍍鈦加工公司，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

古銅色

劈裂電弧涂層 ，含Si納米復合涂層 ， 極高抗熱性能 ，適合硬切削，真空鍍鈦加工公司，納米硬度4300Hv，納米厚度1~3μm。摩擦系數0.3。應用溫1200℃.加工硬度可達65HRC.

用途：特適合加工淬火、鋼淬火硬鋼、不銹鋼、沉淀硬化不銹鋼

8)黑色

劈裂電弧涂層，納米厚度1-3μm，加工硬度可達58HRC.

用途：特適合加工不銹鋼、鈦合金、沉淀硬化不銹鋼、銅合金、鋁合金

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